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  • 全反射X熒光光譜儀
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產(chǎn)品名稱:

全反射X熒光光譜儀

產(chǎn)品型號(hào): TX 2000
更新時(shí)間: 2024-03-06
品牌: GNR/津鈉
生產(chǎn)地址: 意大利
TXRF全反射X熒光光譜儀分析原理是基于X熒光能譜法,但與X射線能譜形成對(duì)比的是,傳統(tǒng)能譜采用原級(jí)X光束以45°角轟擊樣品,而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角,原級(jí)X光束幾乎可以全部被反射,照射在樣品表面后,可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生,同時(shí)減小了載體的背景和噪聲,亦可減少樣品使用量。
  • 詳細(xì)內(nèi)容


  TXRF(全反射X熒光)分析原理是基于X熒光能譜法,但與X射線能譜形成對(duì)比的是,傳統(tǒng)能譜采用原級(jí)X光束以45°角轟擊樣品,而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角,原級(jí)X光束幾乎可以全部被反射,照射在樣品表面后,可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生,同時(shí)減小了載體的背景和噪聲,亦可減少樣品使用量。
  TX2000 將全反射和傳統(tǒng)的能量色散集成在同一臺(tái)儀器上,創(chuàng)新光學(xué)編碼器的步進(jìn)電機(jī),角度測(cè)量,軟件控制Mo/W靶可自由切換,采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測(cè)器。
  全反射X熒光光譜儀應(yīng)用范圍
  TX2000 可檢測(cè)從鈉Na到钚Pu所有元素含量,可進(jìn)行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg),廣泛的應(yīng)用在環(huán)境分析(水、灰塵、沉積物、大氣懸浮物),制藥分析(生物體液和組織樣品中的有害元素),法醫(yī)學(xué)(微小證據(jù)分析),化學(xué)純度分析(酸、堿、鹽、溶劑、水、超純?cè)噭?,油品分析(原油、輕質(zhì)油、燃料油),染料分析(墨水、油漆、粉末),半導(dǎo)體材料分析(揮發(fā)相分解),核材料工業(yè)(放射性元素分析)。
  全反射X熒光光譜儀主要特點(diǎn)
  1、單內(nèi)標(biāo)校正,有效簡化了定量分析,無基體影響;
  2、對(duì)于任何基體的樣品可單獨(dú)進(jìn)行校準(zhǔn)和定量分析;
  3、多元素實(shí)時(shí)分析,可進(jìn)行痕量和超痕量分析;
  4、不受樣品的類型和不同應(yīng)用需求影響;
  5、*的液體或固體樣品的微量分析,分析所需樣品量??;
  6、優(yōu)良的檢出限水平,元素分析范圍從鈉覆蓋到钚;
  7、動(dòng)態(tài)線性范圍;
  8、無需任何化學(xué)前處理,無記憶效應(yīng);
  9、非破壞性分析,運(yùn)行成本低廉。
  根據(jù)分光系統(tǒng)的不同,XRF光譜儀主要有波長色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)兩種,二者結(jié)構(gòu)示意如下圖:


  在X熒光譜儀范圍內(nèi),與波長色散譜儀(WXRF)方法比較,由于TXRF分析技術(shù)用樣量很少,也不需要制作樣品的煩瑣過程,又沒有本底增強(qiáng)或減弱效應(yīng),不需要每次對(duì)不同的基體做不同的基體校準(zhǔn)曲線。另外由于使用內(nèi)標(biāo)法,對(duì)環(huán)境溫度等要求很低。因而在簡便性、經(jīng)濟(jì)性、用樣量少等方面,都比WXRF方法有明顯的優(yōu)越性。
 
  TXRF技術(shù)可以對(duì)從氧到鈾的所有元素進(jìn)行分析,一次可以對(duì)近30種元素進(jìn)行同時(shí)分析,這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。與質(zhì)譜儀中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析(NAA)等方法相比較,TXRF分析方法在快速、簡便、經(jīng)濟(jì)、多元素同時(shí)分析、用樣量少、檢出限低、定量性好等方面有著綜合優(yōu)勢(shì)。

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